Opracování hladkých a strukturovaných povrchů pomocí iontového děla

Anotace: Jedněmi z důležitých vlastností tenkých vrstev jsou jejich tloušťka a morfologie povrchu. Zatímco u nestrukturovaných tenkých vrstev je možno tloušťku většinou snadno řídit při známé depoziční rychlosti pomocí doby depozice, morfologie samotného povrchu je dána mechanismem růstu tenké vrstvy. Pro některé aplikace je pak vhodné mít možnost jak tloušťku, tak morfologii připravené vrstvy jemně doladit. Jednou z možností je následné opracování povrchu pomocí plazmatu. Pokud je povrch bombardován vysokoenergetickými ionty např. Ar, dochází k jeho odprašování. Vhodným nastavením procesních parametrů lze docílit toho, že výsledný povrch je tzv. iontově vyleštěn. Iontové oprašování tak lze využít i k odstranění nežádoucích struktur na povrchu s komplexní morfologií. Jedním z příkladů takovéhoto povrchu jsou TiO₂ nanotrubky vzniklé anodizací Ti vrstev.

Cílem této práce bude otestovat možnosti vyhlazení povrchu TiO₂ nanotrubkové vrstvy a případná modifikace tloušťky stěn těchto nanotrubek. Vliv iontového odprašování na TiO₂ hladké a strukturované vrstvy bude zkoumán pomocí mikroskopie atomových sil (AFM), spektroskopické elipsometrie a skenovací elektronové mikroskopie (SEM). Výsledky získané v rámci tohoto projektu najdou uplatnění v běžícím projektu GAČR.